ELM resolved edge current density profiles are reconstructed using the CLISTE equilibrium code. As input, highly spatially and temporally resolved edge electron temperature and density profiles are used in addition to data from the extensive set of external poloidal field measurements available at ASDEX Upgrade, flux loop difference measurements, and current measurements in the scrape-off layer. Both the local and flux surface averaged current density profiles are analysed for several ELM mitigation regimes. The focus throughout is on the impact of altered temperature and density profiles on the current density. In particular, many ELM mitigation regimes rely on operation at high density. Two reference plasmas with type-I ELMs are analysed, one with a deuterium gas puff and one without, in order to provide a reference for the behaviour in type-II ELMy regimes and high density ELM mitigation with external magnetic perturbations at ASDEX Upgrade. For type-II ELMs it is found that while a similar pedestal top pressure is sustained at the higher density, the temperature gradient decreases in the pedestal. This results in lower local and flux surface averaged current densities in these phases, which reduces the drive for the peeling mode. No significant differences between the current density measured in the type-I phase and ELM mitigated phase is seen when external perturbations are applied, though the pedestal top density was increased. Finally, ELMs during the nitrogen seeded phase of a high performance discharge are analysed and compared to ELMs in the reference phase. An increased pedestal pressure gradient, which is the source of confinement improvement in impurity seeded discharges, causes a local current density increase. However, the increased Zeff in the pedestal acts to reduce the flux surface averaged current density. This dichotomy, which is not observed in other mitigation regimes, could act to stabilize both the ballooning mode and the peeling mode at the same time.
ELM分解能のエッジ電流密度分布は、CLISTE平衡コードを用いて再構成される。高空間・高時間分解能のエッジ電子温度分布と密度分布が、ASDEX Upgradeで利用可能な広範な外部ポロイダル磁場測定、磁束ループ差動測定、スクレイプオフ層における電流測定からのデータに加えて入力として使用される。局所および磁束面平均の電流密度分布の両方が、いくつかのELM緩和領域について解析される。全体を通しての焦点は、温度分布と密度分布の変化が電流密度に及ぼす影響である。特に、多くのELM緩和領域は高密度での運転に依存している。タイプI ELMを有する2つの参照プラズマが解析される。1つは重水素ガス入射を伴うもの、もう1つは伴わないものであり、ASDEX UpgradeにおけるタイプII ELM領域および外部磁場摂動による高密度ELM緩和の挙動に対する参照を提供するためである。タイプII ELMについては、同様のペデスタル頂部圧力が高密度で維持される一方で、温度勾配がペデスタル内で減少することが見出された。これにより、これらの位相における局所および磁束面平均の電流密度が低下し、ピーリングモードの駆動が低減する。外部摂動が印加された場合、タイプI位相とELM緩和位相の間で測定された電流密度に有意な差は見られなかったが、ペデスタル頂部密度は増加した。最後に、高性能放電の窒素シーディング位相中のELMが解析され、参照位相中のELMと比較される。不純物シーディング領域における閉じ込め改善の源であるペデスタル圧力勾配の増加は、局所電流密度の増加を引き起こす。しかしながら、ペデスタルにおけるZeffの増加は、磁束面平均電流密度を低減するように作用する。他の緩和領域では観測されないこの二律背反は、バルーニングモードとピーリングモードの両方を同時に安定化するように作用し得る。