The origin of the better energy and particle transport with peaked density profiles observed in Ohmic plasmas and auxiliary heated plasmas is investigated. It is found that this property results from a reduction of the nonlocal component of the electron heat diffusivity χe caused by Te profile invariance in the outer half of the plasma. Density profile peaking diminishes the net electron heating power and the conductive electron heat flux which forces χe to adjust in such a way that the Te profile shape is conserved. Owing to the coupling with χe, the diffusion coefficient D is also reduced, which improves the particle confinement time and leads to the density profile peaking.
オーミックプラズマおよび補助加熱プラズマで観測される、密度分布のピーキングを伴う改善されたエネルギー・粒子輸送の起源を調査する。この特性は、プラズマの外側半分におけるTe分布の不変性によって引き起こされる、電子熱拡散係数χeの非局所成分の減少に起因することが見出された。密度分布のピーキングは、正味の電子加熱パワーと伝導性電子熱流束を減少させ、その結果、χeはTe分布形状が保存されるように調整されることを余儀なくされる。χeとの結合により、拡散係数Dも減少し、粒子閉じ込め時間が改善され、密度分布のピーキングにつながる。