The possibilities of applying optical scattering techniques to the determination of H- concentrations in plasma sources relevant to negative ion beam generation are considered. Rayleigh scattering measurements for incident wavelengths just below the H- photoionization limit appear to be only just feasible experimentally. A more promising possibility is observation of the modification in a plasma containing negative ions of the collective ion-feature in Thomson scattering. Numerical predictions of the effects of H- concentration on the spectral distribution of the ion-feature are presented.
光学散乱技術を、負イオンビーム生成に関連するプラズマ源におけるH⁻濃度の測定に適用する可能性について考察する。H⁻光電離限界の直下の入射波長におけるレイリー散乱測定は、実験的にかろうじて実現可能であるように思われる。より有望な可能性は、負イオンを含むプラズマにおけるトムソン散乱の集団イオン特徴の変化の観測である。イオン特徴のスペクトル分布に対するH⁻濃度の影響の数値予測を示す。