Complementing the database approach that has been presented in part I, this paper probes into individual plasma discharges and investigates the damping rate variations that are driven by the evolving plasma configurations. In addition to confirming the stabilizing effect of elongated plasma shapings on toroidal Alfvén eigenmodes, the significance of the span of the q profile is shown experimentally for the first time. It is found that, under conditions of transient current density profiles, the damping rate of medium-n modes has a dependence on the background plasma parameters that is distinctively different from that of low-n modes. The analysis of the correlation of the damping rate variations with the changes of the q profile shape and the alignment of the gaps of the shear Alfvén continuum leads to an assessment of the effect of the interaction of the modes with the Alfvén continuum as a function of n.
本論文の第I部で提示したデータベース手法を補完するものとして、本稿では個々のプラズマ放電を調査し、進化するプラズマ形状によって駆動される減衰率の変動を検討する。細長いプラズマ形状がトロイダル・アルフヴェン固有モードに対して及ぼす安定化効果を確認することに加え、qプロファイルのスパンが果たす重要性を実験的に初めて示す。過渡的な電流密度プロファイルの条件下では、中程度のトロイダルモード数nを有するモードの減衰率が、低nモードのそれとは明確に異なる背景プラズマパラメータへの依存性を示すことが見出された。減衰率の変動とqプロファイル形状の変化およびシア・アルフヴェン連続体のギャップとの相関を分析することにより、モードとアルフヴェン連続体との相互作用がnの関数として及ぼす影響の評価が得られる。