The formalism of compound Cox processes was used for statistical analysis of turbulent density fluctuations of plasma during a transient process at electron cyclotron resonance heating of L-2M stellarator plasmas. Short-wavelength (k = 20–30 cm−1) density fluctuations in the central region of the plasma column were measured by the collective backscattering technique. The transient process was caused by sputtering of wall coating and subsequent pulsed impurity injection into the plasma after a step-like increase of the heating power. The evolution of the following parameters was studied: probability density function (PDF) and dynamic and diffusive components of variance of density fluctuations increments. It was found that density fluctuations increments increase simultaneously with average electron density increase and electron temperature decrease during the transient process. It was shown that the PDF of fluctuation increments is characterized by the existence of heavy tails and it can be represented as a composition of four normal laws. Deviation from normal law that happens in the form of random bursts was observed. Duration and frequency of the bursts increases with the level of fluctuation increments and this increase is accompanied by the increase of both components of the variance.
複合コックス過程の形式主義を、L-2Mステラレーターの電子サイクロトロン共鳴加熱中の過渡過程におけるプラズマ密度ゆらぎの統計解析に適用した。プラズマ柱中心領域における短波長（k = 20–30 cm⁻¹）の密度ゆらぎは、集団後方散乱法により計測された。過渡過程は、加熱パワーの段階的増加後の壁面被覆層のスパッタリングとそれに続く不純物のパルス入射によって引き起こされた。以下のパラメータの時間発展を調べた：密度ゆらぎ増分の確率密度関数、およびその分散の動的成分と拡散成分。その結果、過渡過程において、密度ゆらぎ増分は平均電子密度の増加と電子温度の低下と同時に増大することが見出された。密度ゆらぎ増分の確率密度関数は、重い裾野を特徴とし、4つの正規分布の重ね合わせとして表現できることが示された。ランダムなバーストの形で現れる正規分布からの偏差が観測された。バーストの持続時間と発生頻度は、ゆらぎ増分のレベルとともに増加し、この増加は分散の動的成分と拡散成分の両方の増大を伴うことが明らかになった。